製å“å: スカンジウムスパッタリングターゲット
製å“愛称:スカンジウムターゲットã€ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ターゲットアセンブリã€Scターゲット
外観: シルãƒãƒ¼
èžç‚¹: 1541度
沸点:2836度
密度: 2.985 g/cm3
純度: Sc/TREM 99.99%以上 TREM 99.9%以上
Density: >99.5%
å¹³å‡ç²’径:
指示粗ã•ï¼š
仕様:平é¢ã‚¿ãƒ¼ã‚²ãƒƒãƒˆã€å††å½¢ã‚¿ãƒ¼ã‚²ãƒƒãƒˆã€å›žè»¢ã‚¿ãƒ¼ã‚²ãƒƒãƒˆï¼ˆã‚µã‚¤ã‚ºã¯ãŠå®¢æ§˜ã®è¦ä»¶ã«å¿œã˜ã¦ã‚«ã‚¹ã‚¿ãƒžã‚¤ã‚ºå¯èƒ½ï¼‰
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スカンジウムターゲットã®ç”¨é€”:
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スカンジウムスパッタリング ターゲットã¯ã€ç‰©ç†è’¸ç€ (PVD) ã«ã‚ˆã‚‹é‡‘属スカンジウム薄膜ã®è£½é€ ã«ã¨ã£ã¦é‡è¦ãªææ–™ã§ã™ã€‚ スカンジウムターゲット アセンブリã¯ã€ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ターゲット ブランクã¨ãƒãƒƒã‚¯ãƒ—レートãŒåŠç”°ä»˜ã‘ã•ã‚Œã¦æ§‹æˆã•ã‚Œã¦ã„ã¾ã™ã€‚ スカンジウムターゲットブランクã¯ã€é«˜é€Ÿã‚¤ã‚ªãƒ³ãƒ“ーム照射用ã®ã‚¿ãƒ¼ã‚²ãƒƒãƒˆæã§ã‚ã‚Šã€ã‚¹ãƒ‘ッタリングターゲットã®æ ¸ã¨ãªã‚‹éƒ¨åˆ†ã§ã™ã€‚ スパッタリング コーティング プãƒã‚»ã‚¹ä¸ã€ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ターゲット ブランクã«ã‚¤ã‚ªãƒ³ãŒè¡çªã—ãŸå¾Œã€ãã®è¡¨é¢ã®ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ 原åãŒã‚¹ãƒ‘ッタリングã•ã‚Œã¦åŸºæ¿ä¸Šã«å †ç©ã•ã‚Œã¾ã™ã€‚ ãã®ä¸Šã«é›»å薄膜ãŒä½œã‚‰ã‚Œã¾ã™ã€‚ 高純度ã®ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ 金属ã¯æŸ”らã‹ã„ãŸã‚ã€ã‚¹ãƒ‘ッタリングプãƒã‚»ã‚¹ã‚’完了ã™ã‚‹ã«ã¯ã€ã‚¹ãƒ‘ッタリングターゲットを専用ã®æ©Ÿæ¢°ã«å–り付ã‘ã‚‹å¿…è¦ãŒã‚ã‚Šã¾ã™ã€‚ 機械内部ã¯é«˜é›»åœ§ã€é«˜çœŸç©ºã®ç’°å¢ƒã§ã™ã€‚ ã—ãŸãŒã£ã¦ã€ã‚¹ã‚«ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ターゲットブランクã¯ã€ã•ã¾ã–ã¾ãªæº¶æŽ¥ãƒ—ãƒã‚»ã‚¹ã‚’通ã˜ã¦ãƒãƒƒã‚¯ãƒ—レートã«æŽ¥åˆã™ã‚‹å¿…è¦ãŒã‚ã‚Šã¾ã™ã€‚ ãƒãƒƒã‚¯ãƒ—レートã¯ä¸»ã«ã‚¹ãƒ‘ッタリングターゲットを固定ã™ã‚‹å½¹å‰²ã‚’æžœãŸã—ã€è‰¯â€‹â€‹å¥½ãªé›»æ°—ä¼å°Žæ€§ã¨ç†±ä¼å°Žæ€§ãŒå¿…è¦ã§ã‚ã‚Šã€ä¸€èˆ¬ã«éŠ…ã§ä½œã‚‰ã‚Œã¦ã„ã¾ã™ã€‚ 一般的ã«ä½¿ç”¨ã•ã‚Œã‚‹çµåˆæ–¹æ³•ã¯ã€é›»åビーム溶接ã€æ‹¡æ•£æº¶æŽ¥ã€ã‚¤ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ã‚ã†ä»˜ã‘ã€æŽ¥ç€çµåˆã® 4 ã¤ã§ã™ã€‚ ãã®ä¸ã§ã€ã‚¤ãƒ³ã‚¸ã‚¦ãƒ ã‚ã†ä»˜ã‘çµåˆãŒæœ€ã‚‚広ã使用ã•ã‚Œã¦ã„ã¾ã™ã€‚
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In semiconductor chip coating, there are strict requirements on the purity and microstructure of the scandium target. If the impurity content is too high, the formed film will not be able to achieve the required electrical properties for use, and will easily form on the wafer during the sputtering process. Particles are formed on the film, causing short circuit or damage to the circuit, which will seriously affect the performance of the film. The scandium targets produced by HNRE use high-purity scandium raw material Sc/TREM>99.99%. After rolling porcess, the grain size is less than 500μm and the density is>99.5%。 多ãã®ä¸–界的ã«æœ‰åãªåŠå°Žä½“ä¼æ¥ã«ä¾›çµ¦ã•ã‚Œã¦ã„ã¾ã™ã€‚
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